另辟蹊徑!不用EUV光刻機(jī)也能做出5nm
快科技5月30日消息,大家都知道,當(dāng)下先進(jìn)工藝(尤其是7nm以下),基本都依賴ASML的EUV極紫外光刻機(jī)。
2025-05-30 10:49:14
來源:快科技??

快科技5月30日消息,大家都知道,當(dāng)下先進(jìn)工藝(尤其是7nm以下),基本都依賴ASML的EUV極紫外光刻機(jī)。

按照傳統(tǒng)認(rèn)知,沒有EUV就造不出先進(jìn)工藝,那有沒有其他辦法呢。

前段時(shí)間,世界上就有一種“特殊”5nm的消息傳出,它是怎么來的呢?

有報(bào)道稱,這種5nm采用了完全不一樣的技術(shù)路線,避開了EUV光刻機(jī)的依賴,采用一種步進(jìn)掃描光刻機(jī),通過多重曝光實(shí)現(xiàn)5nm線寬。

光刻機(jī)是整個(gè)芯片制造過程中最為核心的設(shè)備,主要功能是將掩模上的電路圖案通過光學(xué)系統(tǒng)投射到涂有光刻膠的硅片上,在光刻膠上形成精細(xì)的圖案,就像 “畫工” 在硅片上繪制電路圖,芯片的制程由光刻機(jī)決定。

另外,刻蝕機(jī)采用某5nm刻蝕設(shè)備,精度達(dá)到原子級,號稱刻蝕速率比以往水平提升15%。

在光刻完成后登場,刻蝕機(jī)的主要作用是按照光刻機(jī)標(biāo)注好的圖案,通過化學(xué)或物理作用,將硅片上多余的部分,如未被光刻膠保護(hù)的材料腐蝕掉,留下需要的部分,以形成半導(dǎo)體器件和連接的圖案,類似于 “雕工”。

不僅如此,量測設(shè)備也采用了新的電子束量測系統(tǒng),實(shí)現(xiàn)nm級缺陷檢測的替代。

也就是說,這種“另辟蹊徑”的方法,帶動了半導(dǎo)體設(shè)備、材料、設(shè)計(jì)工具等全產(chǎn)業(yè)鏈發(fā)展。

說不定,未來這種辦法,也能造出3nm,大家不妨拭目以待。

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